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“铝钼蚀刻液，电子级化学品厂家专业定制加工，”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 认证： | ISO14000/18000 |
| 用途： | 半导体和集成电路中钼铝的蚀刻 | 应用： | 液晶显示行业 |
| 级别： | 电子纯MOS | 含量： | 标准品 |
| 类别： | 高纯物质 | 型号： | 铝钼蚀刻液 |
| 规格： | 500ml、4L | 商标： | by |
| 包装： | 500ml、4L，也可以按客户要求定制包 | 产量： | 1000000000 |
“铝钼蚀刻液，电子级化学品厂家专业定制加工，”详细介绍
）铝钼蚀刻液
英文名称：Aluminum molybdenum etching liquid
物化性质：钼的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右，温度越高蚀刻速率越快，一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min，而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将金属氧化成为金属氧化物，接着再利用磷酸将氧化物予以溶解去除，如此反复进行以达蚀刻的效果。 铝或铝合金的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右，温度越高蚀刻速率越快，一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min，而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将铝氧化成为氧化铝，接着再利用磷酸将氧化铝予以溶解去除，如此反复进行以达蚀刻的效果。
主要用途：用于半导体和集成电路中钼铝的蚀刻。
包装： 500ml、4L，也可以按客户要求定制包装。
铝钼蚀刻液，电子级化学品厂家专业定制加工，
英文名称：Aluminum molybdenum etching liquid
物化性质：钼的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右，温度越高蚀刻速率越快，一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min，而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将金属氧化成为金属氧化物，接着再利用磷酸将氧化物予以溶解去除，如此反复进行以达蚀刻的效果。 铝或铝合金的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右，温度越高蚀刻速率越快，一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min，而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将铝氧化成为氧化铝，接着再利用磷酸将氧化铝予以溶解去除，如此反复进行以达蚀刻的效果。
主要用途：用于半导体和集成电路中钼铝的蚀刻。
包装： 500ml、4L，也可以按客户要求定制包装。
铝钼蚀刻液，电子级化学品厂家专业定制加工，